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Hitachi聚焦離子束系統 MI4050

簡要描述:MI4050是高效率的聚焦離子束設備,它使用了全新的電子光學系統,具有世界領先的SIM圖像分辨率,并且TEM樣品制備效果優異。MI4050廣泛用于截面觀察、微電路修復、納米圖像制備和納米沉積等。

  • 更新時間:2024/9/26 0:00:00
  • 訪  問  量:6894
  • 產品型號:MI4050
詳細介紹

 

特點

 

最大探針電流90nA,實現快速加工和大面積加工

焊線的截面加工
(加工尺寸 寬:95µm 深:55µm, 加工時間 20min)

   

通過提高極低加速電壓(0.5kV~)加工及低加速電壓二次電子圖像分辨率,實現制備損傷率更低的TEM樣品

*1kV以下為選配

 

可觀察高分辨率SIM成像(二次電子成像分辨率高達4nm@30kV)

正常部位

彎折部位

鋁罐的截面SIM圖像

 

采用高精度5軸電動機械優中心馬達臺

可在樣品臺移動(包括傾斜)時自動對多個部位進行多種加工。

 

優越的操作性能和多種多樣的加工模式

● 截面制備程序加工

● TEM/STEM樣品程序加工

● 自動連續加工

● TEM樣品自動連續精加工軟件

● 位圖加工

● Vector Scan加工

● 制備納米精度三維結構樣品 其他

懸空納米導線制作
樣品來源:兵庫縣立大學 松井真二 先生

 

SIM像三維重構分析

等間隔截面加工與截面觀察的往復進行,可取的多張截面連續SIM像,并進行3維重構。由此可判斷樣品中顆粒,孔洞等3維分布狀態。

 

半導體封裝材料中的填料分布分析示例

 

使用多路氣體系統(MGS-II)修復電路

該系統可對應保護膜材料、配線材料、絕緣膜、加速蝕刻等多種用途,照射多種氣體。

● 鎢沉積氣體

● 鉑沉積氣體

● 絕緣膜制備用沉積氣體

● 氟化氙蝕刻氣體

● 有機類蝕刻氣體

● 碳沉積氣體

 

使用XeF2氣體實現的大深徑比孔加工
以及采用鎢沉積引線

 

豐富多樣的坐標鏈接功能

日立高新技術公司獨創的坐標鏈接功能豐富多樣,可確定正確的加工位置和大幅縮短時間。

● 鏡圖像與SIM像的鏈接
   雙光標功能
   日本專利第4634134號 美國專利第7595488號

● 與缺陷檢測設備建立坐標鏈接
   已截斷的晶元或芯片也可與缺陷檢測設備建立坐標鏈接。

● CAD聯用導航軟件

 

 

規格

 
   
項目 內容
樣品尺寸 50mm×50mm×12mm(t)以下
樣品臺 5軸電動機械優中心馬達臺
加速電壓 1~30kV (0.5kV~ 選配)
(0.5~1.0kV : 步長0.1kV)
(1.0~2.0kV : 步長0.2kV)
二次電子分辨率 4nm@30kV
最大探針電流 90nA
最大探針電流密度 50A/cm2

 

 

選購件

 

● 4通道供氣系統

● 自動連續加工軟件

● TEM樣品自動加工軟件

● 控制器顯微鏡 其他

*     :可選擇其他MI系列的各種選配件。

 

 


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